在此實驗研究中,Co-薄膜沉積在FePS3二維反鐵磁材料上,用於研究其介面磁耦合現象;這對於未來自旋電子元件之應用至關重要。在原子力顯微鏡觀察下,機械剝離的FePS3表面由±1單層高度內的缺陷組成。Co薄膜均勻地覆蓋在FePS3基底上,其表面粗糙度約在±0.5 nm以內。2 nm-Pd/7 nm-Co/FePS3在表面表現出各向同性的磁行為。當溫度從85 K升高到110-120 K時,其矯頑力急劇下降。此結果意指當接近FePS3的尼爾相變溫度110-120 K時,Co和FePS3之間的介面磁耦合也產生劇烈變化。即使在高達200 °C的退火後,Co/FePS3的介面磁耦合現象也很穩定。此外,測量其X-射線磁圓二色性證實了FePS3表面Fe的凈磁矩存在,其方向平行於Co磁化方向。介面的Fe磁矩扮演於「垂直反鐵磁性FePS3」與「平面鐵磁Co薄膜」之間的重要磁耦合作用。more |